极紫外（EUV)光刻技术是目前相当火热也是相当具前景的光刻技术。目前使用的EUV光源技术主要是DPP低功率辉光放光等离子体和LPP激光等离子体，后者的高功率输出优势使其更被看好。研究表明，一套具有生产价值的EUV光源系统包括CO2激光器、锡液体微滴生成器、收集光路和碎屑***装置等。
其中CO2激光器、收集光路和碎屑***装置都已取得一定进展，如何产生连续、稳定的微米级锡金属液滴成了人们关注的焦点。
MicroFab的Solder Jet**于金属液滴发生、焊料液滴发生，能加热至240℃。63% 锡 / 37%铅-常用95% 铅 / 5% 锡；96.5% 锡 /3.5银; 52% 铟 / 48% 锡；铟;低温铋焊料均被喷射过。焊料体积由5pL至0.5nL也形成过。
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